≪特 徴≫ Features
◎ クリーンワイパー＋常圧プラズマによる優れた洗浄能力（ACF密着力の向上）
A washing ability excellent by a clean wiper and the normal pressure plasma is demonstrated.
◎ 使用するガスは窒素のみ。（照射時のみ窒素を使用）
The gas used is only nitrogen.
◎ 低温処理（Max 60℃以下）
Low temperature processing(Max 60℃ or less)
◎ マスク不要
The mask is unnecessary.
◎ 各種品種設定対応
The setting to the kind is possible.
◎ 処理時間 8.4〜21インチ（２辺処理）・・・30sec 25インチ・・・35sec
Tact time 8.4-21inch.....30sec 25inch.....35sec
PLASUMA ヘッド部
クリーンワイパー拭取り部| ●装置寸法 | ： | (L D） W：1750mm D：1950mm H：1370mm (WPL） W：2705mm D：1220mm H：1370mm |
| ●プラズマ ヘッド | ： | ・照射幅 50mmヘッド（標準仕様） ・照射幅 75mmヘッド（高速仕様） |
| ●ユーティリティー | ： | 電源 3φ AC200/220 13A 50/60Hz D種接地 エアー 0.5Mpa or more 50L/min 排気 2m3/min 窒素 15L/min(of 99.9% or more in purity) 冷却水 4L/min 25℃ 0.5Mpa |
| ●オプション | ： | 窒素発生器 Air 0.7Mpa or more 131L/min 冷却水循環ポンプ |