☆ セミオート・バッチ式エキシマ光照射装置
＊ 装置概要
本装置は、エキシマランプを4灯内蔵し、上から紫外線 （172nm）を
照射することにより紫外線エネルギーとO3による ドライ洗浄、改質を
行う装置です。基板表面を洗浄、改質し、表面の濡れ性、密着強度を
向上させます。
※基本仕様
| 装置寸法 | W: 760 x D1,000 x H:1,740mm |
| 使用環境 | 温度：0〜35℃ 湿度：85％以下 非結露 |
| 照射時間 | 1ｓ 〜 9999ｓ |
| 照射距離 | 可変 1.0〜3.0mmデジタル表示にて照射距離を確認できます。 |
| 照射器取付方向 | 上から下方へ照射 |
| ランプ本数 | 4本 |
| ワークステージ | 上下機構付き（１枚セット用） ワークステージは吸着式、6・8インチ取替式 |
| ワーク搬送トレー | X方向 ・・・ロッドレスシリンダー 搬送トレーは、6・8インチ取替式 |
| エキシマ照射炉 | 炉内は、N2パージ機構付き 炉内照射ステージは吸着式、サーボモーターにより上下 照射位置は照射ガラスから、1〜3mm 設定可能 |