COG(TAB)用大気PLASMA洗浄/改質装置

SURFACE ATMOS-PLASMA CLEANER for COG (TAB)

  1. 濡れ性,密着力の向上。 Improved cleanliness and adhesiveness on surface.
  2. 使用するガスは窒素のみ。従来のアルゴン、酸素ガスは不要。照射時のみ窒素を使用。
    Only N2: the gas used. Past argon and the oxygen gas are unnecessary.
    Only when irradiating it,N2 is used.
  3. 温度によるダメージは無し　（Max60℃以下)　No damage by the temperature.
  4. マスク不要。　Mask not required.
  5. 枚葉処理I。　In-line single processing.
  6. 品種設定対応。　Excelent modification.
  7. 処理速度　：　50mm/1.5sec.
  8. 8.4 〜21" （２辺処理);；　Tact 30sec. 25" （２辺処理）；Tact 35sec.　

PLSAM-HAED Type

50mm(標準)。　　別途；高速仕様75mm

175V : 50KHZ.:500W  

装置寸法 dimensions

1850 mm (width) x 1125 mm (depth) x 1350 mm (height)

設置条件

Operating environment

Temperature: 20-35℃, Humidity: 85% or lower

No dew condensation

塗装色Paint color

N-8.0  1.5 lusterless

ユーティリティー

Utility

電源Power source

3φ  3W  AC200/220 V  13A

エアAir

5 kg or more  50 L/min

窒素N2

10 L/min (of 99.9% or more in purity)

冷却水Water

2 L/min (City water)

オプション

Option

N2発生器（7 kg or more  131 L/min）SLN-444T

Cooling machine

LD＆端子洗浄付き装置もございます。　There is a device with the Ld & the terminal washing,too.

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